JH-1020 Single Silicon Wafer Cleaning / Silicon Slice Detergent PH 12.0-14.0

1. Lühidalt
Need on patenditooted elektronide taseme ja päikesekvaliteediga räni viilu eemaldamiseks IT- ja päikesepatareide piirkonnas ning patendinumber on ZL200710020269.6.Toode sisaldab kahekordset rühma, millel on hea jõudlus emulsioon-seebistamisel, rasvataimeõliks mineraalõliks, vedelaks jahvatamiseks, samuti metalliioonideks triibutamise kompleksis.

2. Funktsioon
1) ühe rühma tooted täiusliku PPR-iga (jõudlushinna suhe)
2) olema kaltsiumi-, magneesiumi-, metalli-, vase-, plii- ja fosforivaba ning vastama ROHS-i nõuetele.
3) madal vaht, ultrahelipuhastuses vahu ülevool puudub.
4) hea rasvaärastusvõime, mis vastab suure täpsusega IT-ala nõuetele.

3. Juhised
1) Valage puhastuspaaki puhast vett kuni kolmveerandini, seejärel lisage ainet kontsentratsioonis 3% -5%, lisage vesi töötasemeni, viimasena soojendage vannilahus töötemperatuurini.
2) pärast teatud koguse räni viilu rasvatustamist tuleb vannilahus täielikult välja vahetada.
3) vähendage kokkupuuteaega õhus, et vältida oksüdeerumist.
4) töötemperatuur 50-65 kraadi, kõrvaldamise aeg: 2-5 minutit.

4. Märkmed
1) Päikesepaneelid ei saa puudutada vett, kui seda ei saa õigeaegselt puhastada, tuleb see kasta vedelasse või rasvaärastusainesse.
2) õhukuivamise vältimiseks peate päikesepaneeli õigeaegselt utiliseerima niipea, kui see rasvaärastusprotsessi alustas.
3) õhukuivamise vältimiseks hoidke päikesepaneeli märjaks deumeerimisel.
4) kildude vältimiseks tuleb ultraheli rasvaärastuse ajal välja lülitada paagi no1 ja no2 mulllüliti, seejärel lülitage lüliti pärast fikseerimist sisse.
5) vaja vahetada no5.6 ja 7 paak peale ühe tsükli rasvaärastus.
6) räniviilu ei saa puudutada.Töötajad peavad sõrmejälgede vältimiseks töötama kinnastega.
7) kliirensi saavutamiseks tuleb enne demmide eemaldamist pritsida räni viilu vähemalt 30 minutit.

5. Täiendused
1) pakkimine: 20 kg / karp (2 kg / pudel), 25 kg / plasttünn, 1000 kg / barrel
2) kehtivusaeg: üks aasta